




产品参数
基材类型:
聚酯纤维(Polyester):高吸液性,耐化学腐蚀,主流选择。
聚丙烯(PP)无纺布:低析出,适合超高洁净环境。
纤维素混合材料:可降解,但洁净度较低(多用于包装环节)。
纤维直径:超细纤维(0.1~0.5μm),减少划伤风险。
编织工艺:
针织:高强度,适合重复擦拭。
水刺无纺布:无纤维脱落,但吸液能力稍弱。
边缘处理:激光封边或热熔切割,颗粒释放量<0.05/㎡(≥0.3μm)。
吸液能力:
吸液速率:1mL IPA扩散时间≤3秒(ASTM E1560标准)。
吸液量:≥3倍自重(聚酯纤维可达5倍)。
颗粒控制:
发尘量:<0.1颗粒/㎡(IEST-RP-CC004.3 Class 10级)。
非挥发性残留(NVR):<0.1μg/cm²(SEMI标准)。
尺寸规格:常见4"×4"、6"×6"、9"×9",卷筒式宽度可达12"。
克重与厚度:
克重:30~100g/㎡(半导体多用50~80g/㎡)。
厚度:0.2~0.6mm(过薄易破,过厚影响操作性)。
抗拉强度:纵向≥40N/5cm,横向≥20N/5cm(防止擦拭时撕裂)。
洁净等级:ISO Class 1~3(超净型号可达Class 1)。
静电控制:
表面电阻:10^4~10^9Ω(抗静电型需≤10^6Ω)。
化学兼容性:耐IPA、丙酮、去离子水,无硅、卤素、金属离子残留。
产品优势
|
参数 |
要求标准 | 测试方法 |
|---|---|---|
|
纤维脱落 |
≤0.05颗粒/㎡(≥0.5μm) | IEST-RP-CC004.3 |
|
离子残留 |
Na⁺/K⁺<0.01ppm | ICP-MS |
|
吸液速率 |
≤3秒(1mL IPA扩散) | ASTM E1560 |
|
抗静电性 |
表面电阻10^3~10^6Ω | ESD S11.11 |
|
品牌/型号 |
材质 | 边缘处理 | NVR | 适用场景 |
|---|---|---|---|---|
|
Texwipe TX304 |
聚酯针织 | 激光封边 | <0.05μg/cm² | 光刻机镜头清洁 |
|
Berkshire MX810 |
聚酯-尼龙混纺 | 热熔切割 | <0.1μg/cm² | CMP抛光后擦拭 |
|
Micronova M300 |
超细PP无纺布 | 激光封边 | <0.03μg/cm² | 3nm制程敏感区域 |
操作规范:
单向擦拭(不可来回摩擦),配合无尘溶剂(如电子级IPA)。
使用无尘手套取用,避免手部污染。
存储条件:
温度15~25℃,湿度<60%,密封包装防尘。
兼容性测试:
新批次需在非关键区域试用,验证颗粒和残留。