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无尘布/无尘纸

  •  CHJ-1003 SAVINA无尘布
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    CHJ-1003 SAVINA无尘布

    Savina Minimax高级无尘擦拭布、适用于10级以上的无尘车间,吸水吸油性极其优良好,决不损伤原件表面。广泛使用于光学镜头、打印机、传真机、扫描仪、复印机、半导体等行业。

    产品介绍

    产品参数

    一、SAVINA MX 无尘布技术参数

    1. 材质与结构

      • 基材:超细聚酯纤维(Polyester)或复合纤维(可能含尼龙/Polyamide),纤维直径通常<0.2μm。

      • 编织工艺

        • 高密度针织或水刺无纺布工艺,表面纹理均匀。

        • 边缘处理:激光切割或热熔封边,减少纤维脱落(边缘颗粒释放量极低)。

    2. 清洁性能

      • 吸液能力:吸液速率快,吸液量可达自身重量的4~6倍(视型号而定)。

      • 颗粒控制

        • 发尘量<0.05~0.1颗粒/㎡(≥0.3μm,依据IEST-RP-CC004.3标准)。

        • 低析出(NVR<1μg/cm²,符合半导体行业要求)。

    3. 物理特性

      • 尺寸规格:常见4"×4"、6"×6"、9"×9",支持定制尺寸。

      • 克重与厚度

        • 克重约50~100g/㎡,厚度0.3~0.8mm(如MX-70为中等厚度,MX-100为加厚型)。

      • 耐磨性:可耐受多次擦拭(部分型号支持清洗后重复使用)。

    4. 洁净等级

      • ISO Class:符合ISO 14644-1 Class 1~2级(超净型号)。

      • 适用环境:Class 10~100级无尘室。

    5. 静电控制

      • 抗静电性能:表面电阻10^6~10^9Ω(部分型号含永久性抗静电剂或碳纤维导电层)。

    6. 化学兼容性

      • 耐酒精、丙酮、异丙醇(IPA)等常用溶剂,无硅油、氨酯等残留。

    产品优势

    一、核心应用领域

    1. 半导体与集成电路

      • 晶圆生产线、光刻机镜头清洁、芯片封装环节,要求超低颗粒和离子残留。

    2. 显示面板制造

      • OLED/LCD屏幕擦拭,避免划伤和静电干扰。

    3. 生物医药与医疗器械

      • 无菌环境设备清洁(如IVD试剂瓶、注射器生产),部分型号可灭菌(EO或伽马射线)。

    4. 光学精密器件

      • 相机镜头、激光镜片、光纤端面清洁,需高吸液性和零刮擦风险。

    5. 新能源与电子元件

      • 锂电池电极、太阳能电池板表面处理,兼容酸性/碱性溶剂。

     


    二、SAVINA MX系列选型指南

    型号示例

    特点 适用场景

    MX-50

    超薄、高吸液率 光学元件、小型精密部件清洁

    MX-75

    中等厚度,平衡耐磨性 半导体设备日常维护

    MX-100

    加厚、抗静电 显示面板、防静电环境

    MX-200

    可重复清洗(5~10次) 高成本效益的重复使用场景

     


    三、使用注意事项

    1. 开封与存储

      • 在洁净室中拆封,避免用手直接接触无尘布表面。

      • 存放于低湿、无尘环境中(建议湿度<60%)。

    2. 操作建议

      • 单向擦拭(不可来回摩擦),配合高纯度溶剂(如IPA)效果更佳。

      • 一次性使用型号不建议清洗,以免纤维结构破坏。

    3. 兼容性测试

      • 对于敏感工艺(如晶圆清洁),建议先进行小范围兼容性测试。